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  • CMP后雙面清洗機(jī)

    1. 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
    2. 產(chǎn)品型號:CHEMIXX CMP 30pm

    CHEMIXX CMP 30pm是一款專門為晶圓雙面清洗設(shè)計(jì)的系統(tǒng),獨(dú)立系統(tǒng),占地面積小,非常適合有限的空間。具有4路化學(xué)液清洗,兆聲清洗,雙面PVA刷洗,去離子水沖洗等清洗模塊,對晶圓有頂級的清洗能...

    更新時(shí)間:2022-11-25

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  • 標(biāo)準(zhǔn)濕法處理系統(tǒng)

    1. 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
    2. 產(chǎn)品型號:CHEMIXX 30pm

    CHEMIXX 30pm濕法臺是一款半自動單面濕法系統(tǒng),主要用于晶圓或者方片的清洗,刻蝕,顯影等應(yīng)用,其中清洗部分具有化學(xué)清洗,兆聲清洗,PVA刷洗,高壓DI水沖洗,背部清洗等多種功能。...

    更新時(shí)間:2022-11-25

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  • 12寸晶圓顯影機(jī)

    1. 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
    2. 產(chǎn)品型號:UNIXX DB20/30

    UNIXX DB30 型晶圓顯影機(jī)是一款針對12寸及以下尺寸晶圓的半自動系統(tǒng),系統(tǒng)可集成顯影,清洗,干燥等模塊,同時(shí)可用于方片顯影,最大尺寸230mm*230mm。...

    更新時(shí)間:2022-11-25

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  • 8寸晶圓顯影機(jī)

    1. 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
    2. 產(chǎn)品型號:UNIXX D20

    UNIXX DB20 型晶圓顯影機(jī)是一款針對8寸及以下尺寸晶圓的半自動系統(tǒng),系統(tǒng)可集成顯影,清洗,干燥等模塊,同時(shí)可用于方片顯影,最大尺寸150mm*150mm。...

    更新時(shí)間:2022-11-25

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  • 手動晶圓烘焙熱板系統(tǒng)

    1. 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
    2. 產(chǎn)品型號:UNIXX HTp20

    UNIXX HTp20型熱板是一款手動桌面型烘焙系統(tǒng),采用手動PID控制器和定時(shí)器開關(guān)可確保高的溫度控制精度。用于晶圓的單面烘烤,可用于預(yù)烘烤(Pre-bake),前烘(soft bake),底膠涂覆...

    更新時(shí)間:2022-11-24

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  • 半自動晶圓烘焙熱板系統(tǒng)

    1. 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
    2. 產(chǎn)品型號:UNIXX HTe20

    UNIXX HTe20型熱板是一款桌面型半自動烘焙系統(tǒng),用于晶圓的單面烘烤,可用于預(yù)烘烤(Pre-bake),前烘(soft bake),底膠涂覆(Primer Vapor)和后烘烤(hardbake...

    更新時(shí)間:2022-11-24

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  • 立式半自動晶圓烤膠系統(tǒng)

    1. 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
    2. 產(chǎn)品型號:UNIXX He45

    UNIXX He45型熱板是一款立式半自動烘焙系統(tǒng),用于晶圓的單面烘烤,可用于預(yù)烘烤(Pre-bake),前烘(soft bake),底膠涂覆(Primer Vapor)和后烘烤(hardbake堅(jiān)膜...

    更新時(shí)間:2022-11-24

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  • 臺式勻膠機(jī)

    1. 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
    2. 產(chǎn)品型號:BASIXX SB20+

    BASIXX SB20 +是一款臺式半自動勻膠機(jī)系統(tǒng),功能強(qiáng)大,具有勻膠、清洗、顯影和干燥等多種功能,樣品最大尺寸為8寸晶圓或者150mm*150mm方片,廣泛用于大學(xué),研究所等科研實(shí)驗(yàn)室。...

    更新時(shí)間:2022-11-24

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  • 桌面型勻膠機(jī)

    1. 生產(chǎn)廠家:德國Osiris
    2. 產(chǎn)品型號:BASIXX ST20+

    BASIXX ST20 +是一款桌面式勻膠機(jī)系統(tǒng),性價(jià)比高,具有勻膠、清洗、顯影和干燥等多種功能,樣品最大尺寸為8寸晶圓或者150mm*150mm方片,廣泛用于大學(xué),研究所等科研實(shí)驗(yàn)室。...

    更新時(shí)間:2022-11-24

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