CIF實驗室型等離子清洗機(jī)CPC-G系列

所屬分類：等離子清洗機(jī)

表面改性

等離子清洗機(jī) 紫外臭氧清洗機(jī)

表面去膠

等離子去膠機(jī)

表面刻蝕

等離子刻蝕機(jī)

表面涂層

烤膠機(jī) 勻膠機(jī) 濺射鍍膜機(jī)

產(chǎn)品參數(shù)

CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設(shè)備，改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低，性價比高，處理快速高效，特別適合于大學(xué)，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn)。

產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品特點：

◆ 7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20 個配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。

◆ PLC 工控機(jī)控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。

◆ 石英真空艙，真空管路系統(tǒng)采用 316 不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。

◆ 采用質(zhì)量流量計，實現(xiàn)對氣體輸入精準(zhǔn)控制，改變傳統(tǒng)浮子流量計控制氣體流量不準(zhǔn)確問題。

◆ HEPA 高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

◆ 60 度傾角操作界面設(shè)計，符合人體功能學(xué)，操作方便，界面友好。

◆ 頂置真空艙，上開蓋設(shè)計，下壓式鉸鏈開關(guān)方式，開關(guān)蓋方便。

◆ 采用花灑式多孔進(jìn)氣方式，改變傳統(tǒng)等離子清洗機(jī)單孔進(jìn)氣不均勻問題。

◆ 上置式 360 度自由水平取放樣品托盤設(shè)計，符合人體功能學(xué)，操作更方便。

◆ 有效清洗面積大，可清洗最大直徑 8 吋硅片。

◆ 安全保護(hù)，艙門打開，自動關(guān)閉電源。

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